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露光現像インク
  • 露光現像インクYG-E112

露光現像インクYG-E112

  • 製品概要:YG-E 112は単成分、希薄アルカリ水溶液現像、接触露光型液状感光レジスト耐めっきインクであり、主に各種精密金属標識の腐食とめっき、例えば銅、ステンレス、チタン金板などの製造に用いられる。高精度回路基板にも使用可能...
  • 商品の紹介

製品概要:YG-E 112は単成分、希薄アルカリ水溶液現像、接触露光型液状感光レジスト耐めっきインクであり、主に各種精密金属標識の腐食とめっき、例えば銅、ステンレス、チタン金板などの製造に用いられる。高精度回路基板及び多層基板の内層エッチング及びめっきにも使用できる。
 
応用プロセス:基板前処理→スクリーン満版印刷(100 ~ 200目)
 
→予備乾燥(75 ~ 85℃、15 ~ 50分)
 
→露光(1 KW高圧水銀ランプ、ランプ距離50-90 cm露光10 ~ 60秒)→乾燥(80 ~ 90℃、15分)
 
→現像(1%Na 2 CO 3、20 ~ 30℃、10-60秒)→エッチングまたはメッキ
 
→脱墨(3 ~ 5%NaOH、40 ~ 60℃1-3分)
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